實驗室

1. 大氣電漿開發

2. 電漿沉積鍍膜

3. 電漿光譜分析

4. 電漿表面處理

5. 低溫電漿殺菌

6. 常壓電漿蝕刻

碩士班

楊雯琳(112級)
洪宇亮(113級)

五年一貫

蕭映慈(110級)

專題生

子媮(111級)、芊樺(111級)、孟庭(111級)、禹涵(111級)、駿宇(111級)、誼潔(111級)、庭妤(111級)、品妤(111級)、煒霖(110級)

帳務業務：楊雯琳
網管業務：洪宇亮
財產設備：洪宇亮
環安衛事務：洪宇亮

電漿表面工程實驗室(PSEL)創立於2007年，實驗室位於元智二館2403-1，研究生休息室元智二館2106B。

實驗室主持人為 黃駿 老師， 黃老師於美國密蘇里大學哥倫比亞校區獲得化學工程碩/博士學位(2002-2006)，並參與密蘇里大學 Surface Science & Plasma Technology Center(SSPTC)研究群，SSPTC是由國際知名電漿學者Dr. Hirotsugu K. Yasuda所創立以表面科學與電漿科技為主的研究單位， 黃老師在此累積紮實的低溫電漿研究經驗。 黃老師畢業後加入元智化材系(2007)並兼任工業技術研究院機械與系統研究所顧問。

實驗室人員目前有4位碩士研究生、1位五年一貫生、5位專題生，實驗室以培養獨立研究能力、建立團隊合作精神與重視成員互助為目標導向。

電漿表面工程技術被廣泛地應用在現今台灣主流電子業上，舉凡半導體、光電與LED等產業(包括蝕刻、沉積、清潔、及光阻灰化等製程)均需應用到電漿技術，而國內主要塑膠、紡織、金屬傳統產業也借助電漿表面工程替代傳統非環保之濕式化學表面處理。

本實驗室研究主題為大氣電漿技術、電漿PECVD沉積與蝕刻反應、電漿診斷、電子與能源材料表面改質研究。

低溫電漿製程之應用訴求主要可分為：

1、軟性電子元件

2、奈米與生醫材料

3、半導體製程

4、有機高分子表面親/疏水性改質處理

5、電池阻氣層製備

6、電漿蝕刻

7、細胞圖案化

8、功能性奈米鍍膜

9、電漿殺菌

電漿表面工程實驗室主要探討低溫電漿表面工程的基礎化性與物性研究並以此系列電漿研究其改質材料特性與反應生成機制。

低溫電容耦合式真空電漿反應器系統

低溫常壓電漿鍍膜噴頭系統

低溫氣旋式常壓電漿鍍膜系統

低溫氣旋式常壓電漿改質系統

低溫介電質屏蔽放電常壓電漿反應器系統

接觸角測量儀

可變角度多功能光學特性檢測系統

光放射線光譜儀

真空乾燥機

超音波震盪機

薄膜天平

壓縮空氣噴槍

防潮箱

示波器